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佐伯 正克; 平林 孝圀
Radiochimica Acta, 35, p.233 - 238, 1984/00
ホウケイ酸ガラス表面へのトリチウムの吸着機構を、吸着させるトリチウムガスと脱離してくるトリチウムガスの同位体組成変化を追跡することにより調べた。分子状とリチウム(HT,DT及びT)の吸着は物理吸着と化学吸着の2様式で起る。化学吸着の機構は2つの化学反応により説明し得た。すなわち、表面に存在する水酸基の軽水素とトリチウム原子の交換反応と、SiO結合のSiT及びSiOT基への部分的還元反応である。これらの過程にはトリチウム自身の線が影響しており、トリチウムの吸着を促進している。物理吸着成分はガラス内部まで深く侵入する。分子状トリチウムノ一部はその分子状態を保ったまま、ガラスを透過すると考えられる。